GM2000/04實驗室高剪切膠體磨在(zai)一般的(de)(de)情況下，我(wo)們的(de)(de)機械密(mi)封可以zui大承受16bar 壓力(li)，根(gen)據機械密(mi)封的(de)(de)壓力(li)一般要(yao)高(gao)于(yu)密(mi)封腔體(ti)的(de)(de)壓力(li)2-3bar ,這就決定我(wo)們的(de)(de)入口zui大壓力(li)可以達到12-13 bar .

同時機械密封(feng)的(de)使用(yong)壽命和(he)以下因素(su)有關：

滿足以下(xia)條件(jian)使得機械密封的(de)使用壽命更長:

- 可允許的壓(ya)力比率(lv)

- 充份的冷卻和濕度

- 材料(liao)的合適搭配.

機械密封(feng)本(ben)身會產生磨(mo)損和破(po)裂. 磨(mo)損得主要(yao)原因(yin)是:

- 壓(ya)力差

- 溫(wen)度

- 分散物料的(de)腐蝕(shi)性(xing)

- 密封的(de)材(cai)料

      GM2000/04實(shi)驗室高剪切膠體磨的細(xi)化(hua)作用(yong)一般來說要弱于均(jun)質(zhi)機(ji)，但它對(dui)物料的適應能力較強(qiang)（如高(gao)粘度(du)、大(da)顆(ke)粒(li)），所(suo)以在很(hen)多(duo)場合(he)下(xia)，它用(yong)于均(jun)質(zhi)機(ji)的前道或者用(yong)于高(gao)粘度(du)的場合(he)。在固態物質(zhi)較多(duo)時也常常使用(yong)膠體磨進行(xing)細(xi)化(hua)。

      公(gong) 司另外一項*的(de)(de)(de)(de)(de)(de)創新，就是(shi)錐(zhui)體磨(mo)(mo)GMO2000系(xi)列，它的(de)(de)(de)(de)(de)(de)設計使其功能在原有的(de)(de)(de)(de)(de)(de)GM2000的(de)(de)(de)(de)(de)(de)基礎上(shang)(shang)又進了一步(bu)。由(you)于這項創新，GMO2000能夠濕磨(mo)(mo) 和研(yan)磨(mo)(mo)，產生的(de)(de)(de)(de)(de)(de)顆粒粒徑甚至比膠體磨(mo)(mo)GM2000還小。研(yan)磨(mo)(mo)間隙可(ke)以(yi)無級調節，從而可(ke)以(yi)得到(dao)精確的(de)(de)(de)(de)(de)(de)研(yan)磨(mo)(mo)參數。研(yan)磨(mo)(mo)頭的(de)(de)(de)(de)(de)(de)表(biao)面涂(tu)上(shang)(shang)了一層極其堅(jian)硬(ying)的(de)(de)(de)(de)(de)(de)硬(ying)質(zhi)材(cai)(cai)料(liao)(liao)， 從而使其表(biao)面具(ju)有非常粗糙(cao)的(de)(de)(de)(de)(de)(de)紋(wen)理(li)。這種(zhong)硬(ying)質(zhi)材(cai)(cai)料(liao)(liao)是(shi)由(you)碳化物、陶(tao)瓷等高質(zhi)量物質(zhi)構成，并(bing)且具(ju)有不同(tong)的(de)(de)(de)(de)(de)(de)粒徑。研(yan)磨(mo)(mo)頭處形成了一個具(ju)有強烈剪切的(de)(de)(de)(de)(de)(de)區域，可(ke)以(yi)輸送 高粘(zhan)度(du)和低粘(zhan)度(du)物料(liao)(liao)，但它的(de)(de)(de)(de)(de)(de)分散效果和zui后的(de)(de)(de)(de)(de)(de)粒徑大小都比膠體磨(mo)(mo)GM的(de)(de)(de)(de)(de)(de)效果更(geng)加理(li)想。

        GM2000/04實(shi)驗室(shi)高剪(jian)切膠(jiao)體磨的(de)(de)(de)技(ji)術參數：功率1.5-2.2KW,轉速0-14000rpm,線速度(du) 0-40m/s,電壓380V,機器產量為 0– 700 升/小(xiao)時（水），重(zhong)量35KG,尺寸 (長(chang)寬(kuan)高）(450X250X350)MM，LP使(shi)用軸(zhou)封（PTFE 環），在正常的(de)(de)(de)情況下(xia)，一(yi)般(ban)軸(zhou)封可以(yi)(yi)使(shi)用3000-4000次。LP不(bu)能(neng)24小(xiao)時連(lian)續(xu)使(shi)用，一(yi)般(ban)zui多可以(yi)(yi)使(shi)用連(lian)續(xu)半(ban)個小(xiao)時，這要依據料液的(de)(de)(de)溫度(du)和(he)轉速而定。LP也可以(yi)(yi)通過變換模(mo)塊，可以(yi)(yi)實(shi)現多功能(neng)多用途(tu)，是(shi)實(shi)驗(yan)室中試生產的(de)(de)(de)選擇。

實驗(yan)室(shi)膠(jiao)體磨是由電(dian)動機通過(guo)皮帶傳(chuan)動帶動轉齒（或(huo)(huo)(huo)稱(cheng)(cheng)為轉子(zi)）與相(xiang)配的(de)(de)定(ding)齒（或(huo)(huo)(huo)稱(cheng)(cheng)為定(ding)子(zi)）作相(xiang)對的(de)(de)高速旋轉，被(bei)加(jia)工物(wu)料(liao)(liao)通過(guo)本身的(de)(de)重量或(huo)(huo)(huo)外部壓力(li)（可由泵(beng)產生）加(jia)壓產生 向下(xia)的(de)(de)螺旋沖擊(ji)力(li)，透(tou)過(guo)實驗(yan)室(shi)膠(jiao)體磨定(ding)、轉齒之(zhi)間(jian)的(de)(de)間(jian)隙（間(jian)隙可調）時(shi)受到(dao)強(qiang)大的(de)(de)剪切力(li)、摩擦力(li)、高頻振動等物(wu)理作用，使物(wu)料(liao)(liao)被(bei)有效地乳化、分散和(he)粉碎，達(da)到(dao)物(wu)料(liao)(liao)超細粉碎及乳化的(de)(de)效果。 

      GM2000/04實驗室(shi)高(gao)剪切(qie)膠體磨的(de)技術參數：功率2.2KW，轉速(su)0~14000rpm，線速度0~44m/s，電(dian)壓380V，機(ji)(ji)器產(chan)量為(wei)0~700升(sheng)/小(xiao)時（水(shui)），重量45KG，尺寸(長寬高450X250X350)mm，使(shi)用雙(shuang)機(ji)(ji)械密(mi)封，可24小(xiao)時不停機(ji)(ji)連(lian)續生產(chan)，并通冷媒(mei)對密(mi)封部分進行冷卻。機(ji)(ji)械密(mi)封和(he)機(ji)(ji)械設計符合3A健康標準(zhun)，是實驗和(he)中試生產(chan)的選擇。

GM2000/4管線式(shi)高剪切膠體磨的技術優勢主要(yao)體現在以下幾個方面——

1. 轉速相(xiang)較其它廠家2900轉左右高(gao)出三倍

GM2000/4為立式分(fen)體(ti)式結(jie)構，通過皮帶傳動，并實現加速，加速比(bi)為3：1即正(zheng)常(chang)50HZ頻(pin)率下(xia)轉(zhuan)速為7890RPM，外加變頻(pin)可達13789RPM。GM2000/4分散頭直徑為55mm。

    我們的磨頭的結構：溝槽的結構式斜齒，每個磨頭的溝槽深度不一樣，并且斜齒的流道的體積從上往下是從大到下，而他們的斜齒的每個磨頭的溝槽深度一樣，流道 體積是一樣大，這樣形成了本質的區別。我們可以保證物料從上往下一直在進行研磨，而他們只能在一級磨頭到另外一級磨頭形成研磨效果。
      GM2000/4 實驗室膠體磨是專門為膠體溶液生產所設計，特別是那些需要很好乳化和分散效果的膠體生產。GM2000/4實驗室膠體磨的線速度很高，剪切間隙非常小， 這樣當物料經過的時候，形成的摩擦力就比較劇烈，結果就是通常所說的濕磨。 GM2000/4實驗室膠體磨的定轉子被制成圓椎形，具有精細度遞升的三級鋸 齒突起和凹槽。定子可以無限制的被調整到所需要的與轉子之間的距離。在增強的流體湍流下，凹槽在每級都可以改變方向。高質量的表面拋光和結構材料，可以滿 足不同行業的多種要求。