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顏料研磨分散設備

簡要描述:

GMD2000系列顏料研磨分散(san)設備的(de)(de)(de)線速度很高,剪切間隙非常小,這(zhe)樣(yang)當(dang)物料經(jing)過的(de)(de)(de)時候,形成(cheng)的(de)(de)(de)摩(mo)擦(ca)力就比較(jiao)劇烈,結果就是通(tong)常所說的(de)(de)(de)濕磨。定轉(zhuan)子(zi)被制(zhi)成(cheng)圓(yuan)椎形,具有精細度遞(di)升(sheng)的(de)(de)(de)多級(ji)(ji)鋸齒突起和(he)(he)凹槽。定子(zi)可(ke)(ke)以無(wu)限制(zhi)的(de)(de)(de)被調(diao)整到所需要(yao)的(de)(de)(de)與轉(zhuan)子(zi)之間的(de)(de)(de)距離。在(zai)增強(qiang)的(de)(de)(de)流(liu)體湍(tuan)流(liu)下,凹槽在(zai)每(mei)級(ji)(ji)都可(ke)(ke)以改變(bian)方向。高質量(liang)的(de)(de)(de)表面(mian)拋(pao)光和(he)(he)結構(gou)材(cai)料,可(ke)(ke)以滿足不同行(xing)業的(de)(de)(de)多種要(yao)求。

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顏料研磨分散設備

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zui高(gao)轉(zhuan)速可以達到(dao)14000RPM。此(ci)款研磨分散機比普通的(de)分(fen)散機機(ji)的速度達到4-5倍以上,分(fen)散乳化均(jun)質研磨效果非常(chang)好。

 

幾(ji)種顏料研磨分散設備的比較  

以天然(ran)石英砂、玻璃珠或陶瓷珠子(zi)分(fen)散介質的(de)砂磨機,對于細(xi)顆粒(li)而又易分(fen)散的(de)合成(cheng)顏料、粗顆(ke)粒或微(wei)粉化的天然顏料和填料等(deng)(deng)易流動的漆漿,都是(shi)高(gao)效的分散(san)(san)(san)設備。其生(sheng)產能力高(gao)、分散(san)(san)(san)精度好、能耗(hao)低(di)、噪音小(xiao),溶劑揮(hui)發少、結構簡單、便于(yu)維護(hu)、能連續(xu)生(sheng)產。因此,在(zai)多種類型的磁漆和底漆生(sheng)產中獲(huo)得了(le)廣泛的應用(yong)。但是(shi),它不適用(yong)于(yu)生(sheng)產膏狀或厚漿型的懸浮分散(san)(san)(san)體(ti),用(yong)于(yu)加工炭黑等(deng)(deng)細顆粒而(er)難分散(san)(san)(san)的合成顏料(liao)時生(sheng)產(chan)(chan)效率低(di),用于生(sheng)產(chan)(chan)磨蝕性顏料(liao)時則易于磨損,這些因(yin)素都應在選用設(she)備時結合具體情況予(yu)以考慮。

 

球磨機同樣也適用于(yu)分散易流動的(de)懸浮分散體系,它適用于(yu)分散任何品種的(de)顏料(liao),對于分散粗(cu)顆粒的顏料、填(tian)料、磨蝕性顏料和細顆粒又難分散的合成顏料(liao)有著(zhu)突出的效果。臥式球磨(mo)機由于密(mi)閉(bi)操作,故(gu)適用(yong)于要(yao)求防止溶劑(ji)揮發(fa)及含**物(wu)的產品。由于其研(yan)磨細度難以達到(dao)15um以(yi)下,且清(qing)洗換(huan)色困(kun)難,故不適于加工(gong)高(gao)精度的漆漿及(ji)經常調換(huan)花色品種(zhong)的場合。

三(san)輥(gun)機(ji)生產(chan)能(neng)力一(yi)般較低、結構(gou)復雜,手(shou)工(gong)操作(zuo)勞(lao)動強度大、敞開操作(zuo)溶(rong)劑(ji)揮發損(sun)失(shi)大,故應用(yong)范圍(wei)受到一(yi)定限制(zhi)。但(dan)是(shi)它適用(yong)于高粘度漆(qi)漿(jiang)和(he)厚漿(jiang)型產(chan)品的特點為砂磨機(ji)和(he)球(qiu)磨機(ji)所(suo)不及。因而被廣泛用(yong)于厚漆(qi)、膩子及部分厚漿(jiang)狀(zhuang)美術(shu)漆(qi)生產(chan)。

三輥機易于加(jia)工細顆粒(li)而又(you)難分散的合成顏(yan)料及(ji)細(xi)度要求為5—10um的高精度產(chan)品。目前對于某些貴重顏料(liao),一些(xie)廠家(jia)為充分(fen)發(fa)揮其著色力、遮蓋力等顏料特性,以節省用量,往往采(cai)用三輥機研磨之(zhi)。由于三(san)輥機中(zhong)不等速運(yun)轉的(de)兩輥之(zhi)間能產生巨大(da)的(de)剪切力,導致高固體含量的(de)漆料對(dui)顏料(liao)濕潤充(chong)分,從(cong)而有利于(yu)獲得較(jiao)好的(de)產(chan)品質量,因而被(bei)一些廠(chang)家用(yong)來生產(chan)高質量的(de)面漆。除(chu)此之外,由于(yu)三(san)輥(gun)機清(qing)洗(xi)換色比較(jiao)方便,也(ye)常和砂磨機配合應用(yong),用(yong)于(yu)制造復色磁漆用(yong)的(de)少量調色漆。

   因為(wei)好多漿料如油墨,顏料 單用(yong)一(yi)種膠體磨或(huo)分散機是無法達到(dao)客戶所要(yao)求(qiu)(qiu)的理(li)想(xiang)粒徑要(yao)求(qiu)(qiu)已(yi)經分散(san)效果(guo)要(yao)求(qiu)(qiu)。SGN客戶(hu)在(zai)SGN實(shi)驗(yan)室(shi)實(shi)驗(yan)室(shi)做完實(shi)驗(yan)后(hou)經常會遇(yu)到這(zhe)樣的痛苦(ku),物料(liao)已經用N多種國產研磨設(she)備(bei)處理過了,達不到效果,zui后(hou)放下國產設(she)備(bei)的價格優勢找到中德合作的SGN,雖然SGN研(yan)磨分散(san)設(she)備(bei)制造(zao)精密(mi),但也(ye)不(bu)是萬能的,在客(ke)戶要求(qiu)SGN重新(xin)做處理方案時,SGN研(yan)發(fa)(fa)工程師協同客(ke)戶一起研(yan)發(fa)(fa)出了研磨(mo)分散機(ji)SGN公(gong)司總為研(yan)磨分散機定型號為(wei)GMD2000系列。研磨分散機的研制,成功(gong)解(jie)決了(le)原有設備(bei)粒徑處(chu)理(li)不(bu)理(li)想(xiang)的問題(ti)。一方面解(jie)決清洗(xi)難(nan)得問題(ti),二來解(jie)決腐蝕問題,

 

   研磨分散設備的(de)類型是決定色漆生產工藝(yi)過程的(de)關鍵。選用的(de)研磨分散設備不(bu)同(tong),工(gong)(gong)藝過程也不(bu)同(tong)。例(li)如砂磨機分散工(gong)(gong)藝,一般需(xu)要在附有高速(su)分散機(ji)的預混合罐中進行(xing)研磨漆(qi)漿的預混合(he),再(zai)以(yi)砂磨機(ji)研磨分散至(zhi)細度合格。由于砂磨機研磨漆漿粘度較低,易于流(liu)動,大批量生(sheng)產時(shi)可(ke)以(yi)(yi)機械泵為動力,通過管(guan)道進行(xing)輸(shu)送(song);小批量多品種生(sheng)產也(ye)可(ke)以(yi)(yi)用容器移動的方式(shi)進行(xing)漆漿的轉移。球(qiu)蘑(mo)機工藝的配料(liao)預(yu)混合與(yu)研磨分散則在球磨筒**一并進行(xing),研磨漆(qi)(qi)漿(jiang)可(ke)用管(guan)道(dao)輸送(song)(song)(以機械泵或靜位差為動力)和活動容器(qi)運送(song)(song)兩種方式(shi)。三輥機分散因漆(qi)(qi)漿(jiang)較稠(chou),故一(yi)般用換(huan)罐式(shi)攪拌混合,以活動容器(qi)運送(song)(song)的方式(shi)實現漆(qi)(qi)漿(jiang)的傳送(song)(song)。

 顏料(liao)研磨分(fen)散機 

納米(mi)研磨分散設備(bei)   

 

研磨(mo):利用(yong)剪切力(shear force)、摩擦(ca)力(li)(li)或沖擊力(li)(li)(impact force)將(jiang)粉體由大顆粒粉碎成小顆粒。

分散(san):納米粉體被(bei)(bei)其所添加溶劑、助(zhu)劑、分散(san)劑、樹脂等(deng)包覆住,以(yi)便達到顆粒*被(bei)(bei)分離(separating)、潤濕(wetting)、分布(bu)(distributing)均勻及穩定(stabilization)目(mu)的(de)。

在做納(na)米粉體分散(san)或研磨時,因為(wei)粉體尺(chi)度由大(da)變小的過程中,范德(de)華力及布(bu)朗運動現象逐漸明顯且(qie)重(zhong)要(yao)。選擇適當(dang)助劑以(yi)避免粉體再次凝聚及選擇適當(dang)的研磨(mo)機來控制(zhi)研(yan)磨漿料溫度以降低或避免布朗(lang)運動影響,是濕法研磨分散(san)方法能(neng)否成功地得到(dao)納米(mi)級粉體研(yan)磨及(ji)分(fen)散關鍵技(ji)術。
    

    納(na)米研磨分散機是由膠體磨,分散機(ji)組合而成(cheng)的高(gao)科技產品(pin)。 

    *級(ji)由具有(you)精細度遞升的級鋸(ju)齒突起和凹槽。定子可(ke)以(yi)無限制(zhi)的(de)(de)被調(diao)整到所需要(yao)的(de)(de)與轉子之(zhi)間的(de)(de)距(ju)離。在增強的(de)(de)流(liu)體湍流(liu)下,凹槽在每(mei)級都可(ke)以(yi)改變(bian)方向。

    第二級由(you)轉(zhuan)(zhuan)定子組成(cheng)。分散(san)頭(tou)的(de)(de)(de)(de)設計(ji)也很好地(di)滿(man)足(zu)不(bu)(bu)同粘度(du)的(de)(de)(de)(de)物質以(yi)及(ji)顆粒(li)粒(li)徑的(de)(de)(de)(de)需要(yao)。在線式的(de)(de)(de)(de)定子和(he)轉(zhuan)(zhuan)子(乳(ru)化頭(tou))和(he)批(pi)次式機(ji)器(qi)的(de)(de)(de)(de)工作頭(tou)設計(ji)的(de)(de)(de)(de)不(bu)(bu)同主(zhu)要(yao)是(shi)(shi)(shi)因為在對輸(shu)送性的(de)(de)(de)(de)要(yao)求方面,特別要(yao)引起注意(yi)的(de)(de)(de)(de)是(shi)(shi)(shi):在粗精(jing)度(du)、中等精(jing)度(du)、細精(jing)度(du)和(he)其(qi)他(ta)一(yi)些工作頭(tou)類型之間(jian)的(de)(de)(de)(de)區別不(bu)(bu)光是(shi)(shi)(shi)轉(zhuan)(zhuan)子齒的(de)(de)(de)(de)排(pai)列,還(huan)有一(yi)個很重(zhong)要(yao)的(de)(de)(de)(de)區別是(shi)(shi)(shi)不(bu)(bu)同工作頭(tou)的(de)(de)(de)(de)幾何學特征不(bu)(bu)一(yi)樣。狹(xia)(xia)槽(cao)數、狹(xia)(xia)槽(cao)寬度(du)以(yi)及(ji)其(qi)他(ta)幾何學特征都(dou)能(neng)改變定子和(he)轉(zhuan)(zhuan)子工作頭(tou)的(de)(de)(de)(de)不(bu)(bu)同功能(neng)。根據以(yi)往的(de)(de)(de)(de)慣例,依據以(yi)前的(de)(de)(de)(de)經驗(yan)工作頭(tou)來滿(man)足(zu)一(yi)個具(ju)體的(de)(de)(de)(de)應用。在大(da)多數情況下,機(ji)器(qi)的(de)(de)(de)(de)構造(zao)是(shi)(shi)(shi)和(he)具(ju)體應用相匹(pi)配的(de)(de)(de)(de),因而它對制造(zao)出zui終(zhong)產品是(shi)(shi)(shi)很重(zhong)要(yao)。當不(bu)(bu)確定一(yi)種工作頭(tou)的(de)(de)(de)(de)構造(zao)是(shi)(shi)(shi)否滿(man)足(zu)預期(qi)的(de)(de)(de)(de)應用。

GMD2000系列的(de)(de)線速度很高(gao),剪切間隙(xi)非常小,這樣(yang)當物料(liao)經過的(de)(de)時候,形成的(de)(de)摩擦力就(jiu)比(bi)較劇烈,結果就(jiu)是通常所說的(de)(de)濕磨。定轉子被制成圓椎形,具有精細度遞升(sheng)的(de)(de)多(duo)級(ji)鋸(ju)齒突起和(he)凹槽(cao)。定子可以無限制的(de)(de)被調整到(dao)所需要的(de)(de)與轉子之(zhi)間的(de)(de)距離。在增強的(de)(de)流(liu)體湍流(liu)下,凹槽(cao)在每級(ji)都可以改變方向。高(gao)質量的(de)(de)表面拋光和(he)結構材料(liao),可以滿足(zu)不(bu)同行業的(de)(de)多(duo)種要求。

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