石墨烯高(gao)(gao)速德(de)國研磨分(fen)散(san)機(ji)，石(shi)(shi)墨(mo)烯管線(xian)式分(fen)散(san)機(ji)，石(shi)(shi)墨(mo)烯超高(gao)(gao)速分(fen)散(san)機(ji)，石(shi)(shi)墨(mo)烯高(gao)(gao)剪切研磨分(fen)散(san)機(ji)，石(shi)(shi)墨(mo)烯研磨分(fen)散(san)機(ji)，石(shi)(shi)墨(mo)烯分(fen)散(san)機(ji)廠家

石墨烯被(bei)寄予厚望(wang)的(de)(de)(de)(de)(de)應(ying)用(yong)實例之一是轉換(huan)效(xiao)(xiao)率非(fei)常高(gao)(gao)的(de)(de)(de)(de)(de)新一代(dai)太陽(yang)能(neng)電(dian)池(chi)。展(zhan)望(wang)其(qi)今(jin)后的(de)(de)(de)(de)(de)應(ying)用(yong)領域(yu)(yu)，首先是透(tou)明導電(dian)膜領域(yu)(yu)，其(qi)次(ci)是中間電(dian)極等領域(yu)(yu)。因為(wei)石墨烯不僅在(zai)代(dai)替STO方(fang)面(mian)的(de)(de)(de)(de)(de)性能(neng)或其(qi)柔性較高(gao)(gao)，而且只有(you)石墨烯透(tou)明導電(dian)膜才能(neng)實現(xian)(xian)對(dui)于(yu)太陽(yang)能(neng)電(dian)池(chi)來(lai)說非(fei)常重(zhong)要(yao)的(de)(de)(de)(de)(de)特(te)性。這(zhe)(zhe)個特(te)性就是對(dui)于(yu)包括中遠紅外(wai)(wai)線(xian)在(zai)內的(de)(de)(de)(de)(de)所有(you)紅外(wai)(wai)線(xian)的(de)(de)(de)(de)(de)高(gao)(gao)透(tou)明性。盡管紅外(wai)(wai)線(xian)占(zhan)據了相當一部分(fen)的(de)(de)(de)(de)(de)太陽(yang)輻(fu)射能(neng)量(liang)，但現(xian)(xian)有(you)的(de)(de)(de)(de)(de)大部分(fen)太陽(yang)能(neng)電(dian)池(chi)都無法把紅外(wai)(wai)線(xian)作(zuo)為(wei)能(neng)量(liang)源來(lai)有(you)效(xiao)(xiao)利用(yong)。這(zhe)(zhe)是因為(wei)除了有(you)效(xiao)(xiao)的(de)(de)(de)(de)(de)光電(dian)轉換(huan)本身(shen)不易實現(xian)(xian)之外(wai)(wai)，迄今(jin)多用(yong)于(yu)透(tou)明電(dian)極的(de)(de)(de)(de)(de)STO和FTO對(dui)紅外(wai)(wai)線(xian)的(de)(de)(de)(de)(de)透(tou)射率實際上也比較低。

如(ru)果只要對于紅外線確保(bao)透明性就足夠了的(de)話(hua)，材(cai)料(liao)的(de)開發并(bing)不困難。不過，這種材(cai)料(liao)大多(duo)在原理上(shang)會面臨導(dao)電率大幅降低的(de)問題。石(shi)墨烯幾(ji)乎(hu)是*一種能(neng)夠避免這種問題的(de)材(cai)料(liao)。其原因在于石(shi)墨烯具有(you)非(fei)常高的(de)載(zai)流子遷(qian)移率。因此，即使載(zai)流子密(mi)度非(fei)常小，也能(neng)確保(bao)一定(ding)的(de)導(dao)電率。這種材(cai)料(liao)是非(fei)常罕(han)見(jian)的(de)。

zui近(jin)有些研(yan)究機構(gou)正在積(ji)極(ji)進行光(guang)電(dian)轉(zhuan)換層材料的(de)開發，一些紅(hong)外(wai)線高效(xiao)轉(zhuan)換技術(shu)也相繼(ji)面世。這樣(yang)一來(lai)，如果可(ke)以利(li)用對紅(hong)外(wai)線透明度也較高的(de)透明導電(dian)膜，那么(me)就可(ke)期待實(shi)現(xian)遠遠超過現(xian)有太陽能電(dian)池的(de)轉(zhuan)換效(xiao)率。

目前(qian)，在這些開(kai)發(fa)活動中(zhong)處于地(di)位的(de)廠商(shang)之(zhi)一是富士電機控股株式會。該公司目前(qian)正在新能源產業技(ji)術綜合開(kai)發(fa)機構（NEDO）的(de)“革(ge)新性太陽能發(fa)電技(ji)術研究開(kai)發(fa)”項目中(zhong)，積極開(kai)發(fa)采用石墨烯的(de)太陽能電池用透明導(dao)電膜。

不(bu)過(guo)，富士電機(ji)事實上已經(jing)放棄(qi)了迄今一直在研發的(de)(de)使(shi)用氧化石(shi)墨(mo)烯制(zhi)作石(shi)墨(mo)烯片(pian)(pian)的(de)(de)工(gong)藝。同時作為(wei)替代(dai)方法(fa)導入了三星公司等也采用的(de)(de)熱GVD法(fa)。[散(san)戶之友、收集(ji)整理]通過(guo)一系列自(zi)主(zhu)改進得到的(de)(de)2層石(shi)墨(mo)烯片(pian)(pian)的(de)(de)“導電率(lv)將(jiang)高達(da)(da)STO的(de)(de)幾倍，并且(qie)能夠(gou)確保90%的(de)(de)光透射率(lv)等，已經(jing)達(da)(da)到能夠(gou)充分滿足(zu)性(xing)能指標的(de)(de)水(shui)平”。

有待解決(jue)的(de)課題是(shi)量產性問(wen)題。“我們(men)希望(wang)再能(neng)降低GVD法(fa)的(de)工(gong)藝度。同時需要(yao)確(que)(que)立該方法(fa)中所使用(yong)(yong)的(de)銅的(de)再利用(yong)(yong)工(gong)藝。另外(wai)，還需要(yao)確(que)(que)認與太陽能(neng)電(dian)池半導體層(ceng)的(de)相容(rong)性等”。

 SGN石墨烯高速德國(guo)研磨分散機(ji)，轉速高達20000rpm，剪切力強，是(shi)(shi)國內設備的(de)(de)(de)4-5倍(bei)。研磨(mo)分(fen)散機是(shi)(shi)膠體磨(mo)和分(fen)散機的(de)(de)(de)一(yi)體化設備，磨(mo)頭(tou)結構(gou)、分(fen)散盤的(de)(de)(de)結構(gou)，也更適合細胞破碎、細胞破壁。采用博格曼雙端面機械(xie)密封，并配有機封冷卻系統，可供(gong)工業(ye)化生產(chan)24小時運行。分(fen)體式結構(gou)，通過皮帶提速，可根據(ju)調(diao)節轉速，滿足不同細胞破碎要求，合適的(de)(de)(de)轉速，合理的(de)(de)(de)剪切力不易導致產(chan)品(pin)變性(xing)失(shi)活。
    

   GMD2000系列研磨分散(san)機的特(te)點：

①   線速度很高，剪切間隙非常小，當物料(liao)經過的(de)(de)時(shi)候，形成的(de)(de)摩擦力就比較劇烈(lie)，結果就是通常所說(shuo)的(de)(de)濕磨(mo)

②   定(ding)轉子被制(zhi)成圓椎形，具有精細度遞升(sheng)的三級鋸(ju)齒突起和凹槽。

③   定子可以無(wu)限制的被調(diao)整(zheng)到所需要(yao)的與(yu)轉子之間的距離

④   在增強(qiang)的(de)流體湍流下，凹槽在每級都(dou)可以改變方向。

⑤   高質量的表面拋光和(he)結(jie)構材料，可以滿足不(bu)同行業的多種要(yao)求。

1.表中上限處(chu)理量是指介質(zhi)為“水”的測(ce)定數據。

2.處理量取決于物(wu)料(liao)的(de)粘度(du)，稠度(du)和zui終產品的(de)要求。

3.如高(gao)溫，高(gao)壓，易燃易爆，腐蝕(shi)性等工況(kuang)，必(bi)須提供準確的參(can)數，以便選型和定制。

4.本表(biao)的(de)數(shu)據(ju)因技術改動，定制而不符，正確(que)的(de)參數(shu)以提(ti)供(gong)的(de)實物為準.