納米醫藥混(hun)懸(xuan)劑超高(gao)(gao)速剪切研磨均質(zhi)機(ji)設計*,能(neng)夠延長易損件(jian)的使用時(shi)間,因此尤其(qi)適合高(gao)(gao)硬度和高(gao)(gao)純度物(wu)料的粉碎。可(ke)(ke)以一機(ji)多用,也可(ke)(ke)以單獨(du)使用,且(qie)粉碎粒(li)(li)度范圍廣,成(cheng)品粒(li)(li)徑(jing)可(ke)(ke)以進行調整(zheng)。混(hun)懸(xuan)液是指:以固體顆(ke)粒(li)(li)分散于分散媒中,顆(ke)粒(li)(li)與分散媒之間有相(xiang)界面,稱為混(hun)懸(xuan)液。
一、產品概述(shu)
納米醫藥混懸劑超高速剪切研磨均質機,混懸劑均質機,納米醫藥混懸液分散機,納米高剪切分散機,納米混懸液制備設備,納米混懸液分散機,進口分散機,分散機廠家,分散機價格
二、產品簡介
納米醫藥混懸劑超高速剪切研磨均質機設計*,能夠延長易損件的使(shi)用(yong)時間,因(yin)此尤其適合高硬度(du)和高純(chun)度(du)物料的粉(fen)碎。可以(yi)一機多(duo)用(yong),也可以(yi)單獨使(shi)用(yong),且粉(fen)碎粒度(du)范圍廣(guang),成品粒徑可以(yi)進行調整。混懸液是指(zhi):以固體顆(ke)粒(li)分散于分散媒(mei)中,顆(ke)粒(li)與分散媒(mei)之間有(you)相界面,稱為混懸液。
混(hun)懸液的(de)貯存(cun)存(cun)在(zai)物(wu)理(li)穩定性(xing)問題。混(hun)懸液中藥(yao)物(wu)微(wei)粒分(fen)散度大 ,微(wei)粒(li)與分散(san)介質(zhi)之間存(cun)(cun)在著物(wu)理界面,是(shi)混(hun)(hun)懸(xuan)(xuan)微(wei)粒(li)具有較高的(de)(de)(de)(de)表面自由能,混(hun)(hun)懸(xuan)(xuan)劑(ji)(ji)處于(yu)不穩定狀態。疏水性藥物(wu)的(de)(de)(de)(de)混(hun)(hun)懸(xuan)(xuan)劑(ji)(ji)比親水性藥物(wu)存(cun)(cun)在更(geng)大的(de)(de)(de)(de)穩定性問題。若(ruo)要(yao)制得沉(chen)降緩慢的(de)(de)(de)(de)混(hun)(hun)懸(xuan)(xuan)液(ye),應減(jian)少顆粒(li)的(de)(de)(de)(de)大小,增加分散(san)劑(ji)(ji)的(de)(de)(de)(de)粘度及減(jian)少固(gu)液(ye)間的(de)(de)(de)(de)密度差。
納(na)米(mi)醫藥混懸液(ye)分(fen)散機,高(gao)(gao)剪切條件下的混懸液(ye),高(gao)(gao)速(su)通過(guo)工作腔定轉子間隙,由于轉子高(gao)(gao)速(su)轉動,物料在(zai)定轉子間隙內,高(gao)(gao)速(su)撞擊、剪切等(deng)綜合(he)效(xiao)應,將(jiang)較大的顆粒粉碎成很(hen)小的微粒,它(ta)們的直徑在(zai)0.01-2μm范圍內。這個純粹的物理過程保(bao)持產(chan)品(pin)原有的活性,與(yu)此(ci)同時(shi),細化了顆粒,獲得相(xiang)對(dui)穩定的混懸液(ye)。
三、納米高(gao)剪切(qie)分(fen)散機(ji)的特(te)點
1具有非常高的(de)剪切速度和剪切力,粒(li)徑約為0.2-2微(wei)米可以確(que)保高速分(fen)散乳化的穩定性。
2該設備可以適用(yong)于各(ge)種(zhong)分散乳化工藝,也(ye)可用(yong)于生產包(bao)括對(dui)乳狀液、懸(xuan)浮液和膠體的分散混(hun)合。
3三(san)級分(fen)(fen)散機由定、轉子(zi)系(xi)統(tong)所產生的(de)剪(jian)切力使得溶質(zhi)轉移速度增(zeng)加(jia),從而使單(dan)一分(fen)(fen)子(zi)和宏(hong)觀分(fen)(fen)子(zi)媒介的(de)分(fen)(fen)解加(jia)速。
GMD2000系列研磨分散(san)機(ji)的結構(gou):研磨式分散(san)機(ji)是(shi)由錐體磨,分散(san)機(ji)組合而成的高科(ke)技(ji)產品。
第yi級(ji)由具有精細度遞升的(de)三級(ji)鋸(ju)齒突(tu)起和凹槽(cao)。定(ding)子(zi)(zi)可以無(wu)限制(zhi)的(de)被調整到所(suo)需要的(de)與轉子(zi)(zi)之間(jian)的(de)距離。在(zai)增強的(de)流體湍(tuan)流下(xia),凹槽(cao)在(zai)每級(ji)都可以改變方(fang)向。
第二級由(you)轉定子組成。分散頭(tou)的設計(ji)也很好地滿足不同(tong)粘度的物質以及顆粒粒徑的需(xu)要。在線式(shi)的定子和轉子(乳化頭(tou))和批次式(shi)機(ji)器的工作頭(tou)設計(ji)的不同(tong)主要是因為(wei) 在對(dui)輸送性的(de)(de)要求方面(mian),特(te)別(bie)要引起(qi)注意的(de)(de)是(shi):在粗精度(du)、中等(deng)精度(du)、細(xi)精度(du)和其他一些(xie)工作頭類型之間的(de)(de)區別(bie)不光是(shi)轉子齒(chi)的(de)(de)排列,還有(you)一個很(hen)重要的(de)(de)區別(bie)是(shi) 不(bu)同工作頭的(de)幾(ji)何學(xue)特(te)征(zheng)不(bu)一樣。狹(xia)槽(cao)數、狹(xia)槽(cao)寬(kuan)度(du)以(yi)及其他幾(ji)何學(xue)特(te)征(zheng)都能(neng)改變定子和(he)轉(zhuan)子工作頭的(de)不(bu)同功(gong)能(neng)。根據以(yi)往的(de)慣例,依據以(yi)前的(de)經驗工作頭來滿 足一個具(ju)體(ti)的應(ying)用(yong)(yong)。在大多(duo)數情況下,機器的構造(zao)是和具(ju)體(ti)應(ying)用(yong)(yong)相匹配的,因而它對(dui)制造(zao)出zui終(zhong)產(chan)品(pin)是很重要。當不確(que)定一種工作頭的構造(zao)是否(fou)滿足預期的應用。
四、GMD2000系列研磨分散(san)機(ji)設(she)備(bei)選型表
型號 | 流(liu)量 L/H | 轉速(su) rpm | 線速度 m/s | 功率 kw | 入/出口(kou)連接 DN |
GMD2000/4 | 300 | 9000 | 23 | 2.2 | DN25/DN15 |
GMD2000/5 | 1000 | 6000 | 23 | 7.5 | DN40/DN32 |
GMD2000/10 | 2000 | 4200 | 23 | 22 | DN80/DN65 |
GMD2000/20 | 5000 | 2850 | 23 | 37 | DN80/DN65 |
GMD2000/30 | 8000 | 1420 | 23 | 55 | DN150/DN125 |
GMD2000/50 | 15000 | 1100 | 23 | 110 | DN200/DN150 |
流量取(qu)決于設(she)置(zhi)的間隙和被(bei)處理物料(liao)的特性,可以被(bei)調(diao)節到zui大(da)允許量的10%
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